本書是一本關(guān)于新質(zhì)生產(chǎn)力和經(jīng)濟、科技趨勢的圖書，由中科創(chuàng)星創(chuàng)始合伙人、硬科技投資者米磊創(chuàng)作。本書以“硬科技”為主線，從回顧人類科技發(fā)展史、經(jīng)濟周期、經(jīng)濟復盤與大國博弈格局切入，重點探討了影響中國未來的關(guān)鍵性技術(shù)(產(chǎn)業(yè))，以及這些技術(shù)將如何塑造并影響相關(guān)產(chǎn)業(yè)，還分享了自己在硬科技領(lǐng)域的投資與創(chuàng)業(yè)實踐心得。全書共分為四個部

本書聚焦于科研活動中倒U型現(xiàn)象的形成機制,主要研究內(nèi)容包括:對科研活動中已發(fā)現(xiàn)的倒U型現(xiàn)象及其解釋理論進行了全面、系統(tǒng)的梳理;構(gòu)建了一套科研生態(tài)系統(tǒng),將科研活動元素有機地組織起來,用于定位可能發(fā)生倒U型現(xiàn)象的科研活動元素;借鑒社會系統(tǒng)中倒U型現(xiàn)象的解釋,提出科研活動中倒U型現(xiàn)象的形成機制模型,并應用這一模型,甄別出4種

本書聚焦開放科學領(lǐng)域深化研究內(nèi)容，面向全國學會職能和實際工作需求，為提升公共服務(wù)能力提供工作指南和模式參考。本書定位為一部兼具較高可讀性與重要參考價值的開放科學科普讀物與資料匯編。目標讀者主要是一般科研人員和科技社團的管理人員，鑒于他們自身科研工作繁忙，完整閱讀一本科普讀物存在一定困難。若采用傳統(tǒng)形式系統(tǒng)全面地介紹開放

專利作為技術(shù)創(chuàng)新成果的要素之一，可以從一個側(cè)面反映一個組織或地區(qū)的創(chuàng)新能力�！蛾兾鲗＠麛�(shù)據(jù)分析2023》對2023年陜西的國內(nèi)外專利公開數(shù)據(jù)進行多維度分析，展示陜西專利的全貌及特征，揭示陜西在幾個主要技術(shù)領(lǐng)域技術(shù)創(chuàng)新的優(yōu)勢和不足。本書以incoPat專利數(shù)據(jù)庫、德溫特專利數(shù)據(jù)庫，以及中國、美國、日本、韓國，世界知識產(chǎn)權(quán)

本書首章概述科技人才的定義、特性及其在技術(shù)驅(qū)動的經(jīng)濟中的重要性。隨后，詳細討論科技人才政策的理論基礎(chǔ)、實施現(xiàn)狀及面臨的挑戰(zhàn)，并提出創(chuàng)新的政策建議。探討科技人才流動的動因、影響及優(yōu)化策略，以及科技人才激勵機制的設(shè)計與實施，強調(diào)激勵與人才保留之間的關(guān)系。最后，書中還探討了科技人才高地的構(gòu)建，包括必要的基礎(chǔ)設(shè)施和創(chuàng)新生態(tài)系統(tǒng)

2023~2024年，東莞深入貫徹落實黨的二十大和二十屆二中全會、三中全會關(guān)于科技創(chuàng)新的決策部署，更加突出面向產(chǎn)業(yè)發(fā)展需求，更加注重發(fā)揮創(chuàng)新對產(chǎn)業(yè)升級的促進作用，科技工作在基礎(chǔ)研究—技術(shù)攻關(guān)—成果轉(zhuǎn)化—科技金融—人才支撐創(chuàng)新生態(tài)鏈上深入優(yōu)化調(diào)整，有效推進科技創(chuàng)新賦能產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展。本書聚焦“科技創(chuàng)新+先進制造”的東莞城

本書是一本將各大全球知名技術(shù)公司從興起到發(fā)展，直至走向巔峰的主打技術(shù)的具體原理與研發(fā)實踐。本書以信息技術(shù)發(fā)展為線索，探討在科技企業(yè)和IT行業(yè)中技術(shù)更替和的深層原理，力圖從底層技術(shù)演進角度為科技創(chuàng)新提供借鑒。全書分為興衰篇、更替篇、邊界篇、治理篇，聚焦IBM、柯達、索尼、蘋果、迪士尼等企業(yè)的技術(shù)根基與發(fā)展脈絡(luò)，深入剖析技

從開天辟地以來，人類就被對未知的恐懼和對求知的好奇心所驅(qū)使。我們一直都渴望知道未來，無論是威脅還是安全，稀缺還是豐富。隨著科學方法的提高和計算機技術(shù)的發(fā)展，我們更有信心通過積累和解釋過去的模式來預測和量化未來，但事實是目前還沒有確切的把握。珍妮弗·吉德利在書中討論了一些我們最急于知曉的問題：什么是“未來”？未來是尚未到

本書圍繞深圳“20+8”產(chǎn)業(yè)、電化學儲能產(chǎn)業(yè)和低空經(jīng)濟產(chǎn)業(yè)開展分析，分別從全球、中國、深圳的專利基本情況出發(fā)，明確深圳在這些重點產(chǎn)業(yè)關(guān)鍵核心技術(shù)上的優(yōu)劣勢，對標優(yōu)勢地區(qū)，總結(jié)深圳在產(chǎn)業(yè)發(fā)展上存在的問題或可能面臨的專利風險，提出未來發(fā)展路徑。本書對于深圳培育和發(fā)展新質(zhì)生產(chǎn)力、推動高質(zhì)量發(fā)展具有重要參考意義，是深圳重點產(chǎn)業(yè)

本書基于最新的專利法、專利法實施細則和專利審查指南的規(guī)定，以圖文并茂的方式闡述中國局部外觀設(shè)計專利申請的具體規(guī)則，主要包括局部外觀設(shè)計的保護客體、實質(zhì)性授權(quán)條件、單一性、優(yōu)先權(quán)、申請文件及其修改等內(nèi)容，為申請人制定局部外觀設(shè)計的申請策略、提交高質(zhì)量申請?zhí)峁┲笇А?/p>