《微電子概論(第2版)》系普通高等教育“十一五”國(guó)家級(jí)規(guī)劃教材!段㈦娮痈耪摚ǖ2版)》共6章,以硅集成電路為中心,重點(diǎn)介紹半導(dǎo)體集成器件物理基礎(chǔ)、集成電路制造基本工藝及其發(fā)展、集成電路設(shè)計(jì)和微電子系統(tǒng)設(shè)計(jì)、集成電路計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)(CAD)。《微電子概論(第2版)》適用于非微電子專(zhuān)業(yè)的電子信息科
《CMOS模擬集成電路分析與設(shè)計(jì)(第2版)》是普通高等教育“十一五”國(guó)家級(jí)規(guī)劃教材。本書(shū)分析了CMOS模擬集成電路設(shè)計(jì)理論與技術(shù),全書(shū)由17章組成。從CMOS器件物理及高階效應(yīng)出發(fā),介紹了CMOS模擬集成電路的基礎(chǔ),然后分別介紹了模擬集成電路中的各種電路模塊:基本放大器、恒流源電路、差分放大器、
《Protel99SE電路設(shè)計(jì)與制板技術(shù)》為高職高專(zhuān)規(guī)劃教材和浙江省重點(diǎn)教材建設(shè)項(xiàng)目!禤rotel99SE電路設(shè)計(jì)與制板技術(shù)》從印制電路板設(shè)計(jì)方向的崗位出發(fā),按照項(xiàng)目導(dǎo)入、任務(wù)驅(qū)動(dòng)的原則共設(shè)置了11個(gè)項(xiàng)目,包括protel99se的安裝與啟動(dòng)、電原理圖設(shè)計(jì)人門(mén)、電原理圖設(shè)計(jì)提高、電原理圖元件繪制、電原理圖設(shè)計(jì)實(shí)例、印
《模擬集成電路分析與設(shè)計(jì)(第2版)》以電路為軸線(xiàn),從基礎(chǔ)到復(fù)雜,從純粹的模擬集成電路到數(shù);旌闲盘(hào)集成電路,重點(diǎn)介紹模擬集成電路和數(shù);旌闲盘(hào)集成電路中基本電路的概念、工作原理、電路分析和設(shè)計(jì)。全書(shū)共10章:第1章介紹在系統(tǒng)集成時(shí)代的模擬集成電路;第2章介紹模擬集成電路中的器件,包括雙極型晶體管、MOS管、集成電阻、集
《AltiumDesigner快速入門(mén)(第2版)》詳細(xì)介紹AltiumD。sigll。r的功能和面向?qū)嶋H的應(yīng)用技巧及操作方法。主要內(nèi)容包括從Protel99SE到A1tiumDesigner、AltiumDcsigner設(shè)計(jì)環(huán)境、原理圖基本要素、PCB設(shè)計(jì)、FPGA設(shè)計(jì)、嵌入式軟件設(shè)計(jì)、多圖紙?jiān)O(shè)計(jì)、多通道設(shè)計(jì)、全局編輯
《電磁兼容與印制電路板》是天津市科協(xié)自然科學(xué)學(xué)術(shù)專(zhuān)著基金資助出版,《電磁兼容與印制電路板》共分7章:第1章給出了電磁兼容的基本概念和原理并用周期性函數(shù)的傅里葉變換和非周期性干擾信號(hào)的頻譜分析對(duì)電磁干擾(騷擾)進(jìn)行數(shù)學(xué)描述;第2章詳細(xì)闡述印制電路板設(shè)計(jì)原則,包括印制電路板的設(shè)計(jì)流程、印制電路板的散熱設(shè)計(jì)、印制電路板的可測(cè)
《Protel99SE&DXP電路設(shè)計(jì)教程(修訂版)(附光盤(pán)1張)》由Protel99SE、ProtelDXP、實(shí)用附錄、多媒體教學(xué)光盤(pán)四部分組成。書(shū)中內(nèi)容結(jié)合了作者多年的電子CAD設(shè)計(jì)應(yīng)用、培訓(xùn)/認(rèn)證、教學(xué)工作經(jīng)驗(yàn),詳細(xì)介紹了Protel99SE原理圖設(shè)計(jì)及技巧、層次原理圖設(shè)計(jì)、DRC設(shè)計(jì)校驗(yàn)、印制電路板PCB設(shè)計(jì)及
ProtelDXP2004是目前應(yīng)用最廣泛的電子CAD軟件之一。本書(shū)全面系統(tǒng)地介紹了ProtelDXP2004的功能及其使用方法,使初學(xué)者在學(xué)完本教程后能用ProtelDXP2004繪圖。本書(shū)共4章,第1章:ProtelDXP2004初步操作;第2章:原理圖設(shè)計(jì);第3章:印制電路板圖的設(shè)計(jì);第4章:仿真電路設(shè)計(jì)與仿真分
《先進(jìn)焦平面技術(shù)導(dǎo)論》以先進(jìn)焦平面技術(shù)為主線(xiàn),在扼要概括國(guó)內(nèi)外研究歷程和技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)的基礎(chǔ)上,著重介紹了作者近年對(duì)雙色或雙譜段紅外焦平面芯片的數(shù)值設(shè)計(jì)、硅基碲鎘汞和鋁鎵氮多層材料的生長(zhǎng)工藝技術(shù)、碲鎘汞紅外雙色和鋁鎵氮紫外焦平面芯片加工技術(shù)、雙色焦平面多輸入級(jí)和數(shù)字傳輸讀出電路的設(shè)計(jì)技術(shù)、信號(hào)光輸出方法以及芯片級(jí)非均勻性