本書全面闡述了半導體刻蝕加工及金屬輔助化學刻蝕加工原理與工藝,詳細講述了硅折點納米線、超高深徑比納米線、單納米精度硅孔陣列三類典型微/納米結構的刻蝕加工工藝,并對第三代半導體碳化硅的電場和金屬輔助化學刻蝕復合加工、第三代半導體碳化硅高深寬比微槽的紫外光場和濕法刻蝕復合加工工藝進行了詳細論述。
本書以著名光子學家郭光燦院士指出的“書乃明理于本始,惠澤于世人……探微索隱,刻意研精,識其真要,奉獻讀者”為旨要,以12章成體,以激光單元技術和應用技術為用。首先對各種單元技術結構特點、運轉(zhuǎn)機理等基礎知識進行介紹;然后分別介紹激光調(diào)制、偏轉(zhuǎn)、調(diào)Q、超短脈沖、放大、橫模選取、縱模選取、穩(wěn)頻、非線性光學、激光微束等技術,其
超結是功率半導體器件領域的創(chuàng)新的耐壓層結構之一,它將常規(guī)阻型耐壓層質(zhì)變?yōu)镻N結型耐壓層,突破了傳統(tǒng)比導通電阻和耐壓之間的硅極限關系(Ron,spVB^2.5),將2.5次方關系降低為1.32次方,甚至是1.03次方關系,被譽為功率半導體器件發(fā)展的里程碑。本書概述了功率半導體器件的基本信息,重點介紹了作者在功率超結器件研
本書主要以幾種新型的納米多孔GaN基薄膜為研究對象,系統(tǒng)地介紹了其納米孔結構的制備及特性研究,為其在光解水、發(fā)光器件、柔性器件及可穿戴設備等領域的應用奠定了理論和實驗基礎。
單片智能功率芯片是一種功能與結構高度集成化的高低壓兼容芯片,其內(nèi)部集成了高壓功率器件、高低壓轉(zhuǎn)換電路及低壓邏輯控制電路等,高壓厚膜SOI基橫向IGBT器件(高壓厚膜SOI-LIGBT器件)在其中被用作開關器件,是該芯片中的核心器件,其性能直接決定了芯片的可靠性和功耗。本書共7章:介紹了厚膜SOI-LIGBT器件的工作原
傳感器是信息獲取的源頭,位于信息技術鏈條的最前端。本書從氣體傳感器的應用領域和系統(tǒng)分類出發(fā),重點圍繞基于混成電位原理的固體電解質(zhì)氣體傳感器的研究進展、發(fā)展現(xiàn)狀及未來趨勢進行介紹。本書主要內(nèi)容包括固體電解質(zhì)氣體傳感器的種類和特點、釔穩(wěn)定氧化鋯基混成電位型氣體傳感器的混成電位原理、增感策略、高效三相界面構筑、其他增感策略以
半導體光電子學是研究半導體光子和光電子器件的學科,涉及各種半導體光電子器件的物理概念、工作原理及制作技術,在能源、顯示、傳感和通信等領域都擁有廣泛的應用!禕R》本書主要包括半導體材料基本性質(zhì)、半導體光電子器件基本結構、載流子注入與速率方程、半導體激光器基本理論、光信號調(diào)制、半導體光電探測器、太陽能光熱與光伏、半導體光
全書較為系統(tǒng)地論述了壓接型IGBT器件封裝疲勞失效機理及其可靠性建模與測評等,既有理論原理、仿真分析、又有實驗測試等。全書內(nèi)容可為高壓大功率壓接器件的可靠性設計優(yōu)化和測試奠定理論基礎;同時也為實現(xiàn)柔直裝備安全運行的狀態(tài)評估和主動運維提供技術支撐,從而進一步支撐以高壓大功率IGBT器件為核心的柔直裝備及電力系統(tǒng)安全。
本書介紹了主要半導體材料硅、砷化鎵等制備的基本原理和工藝,以及特性的控制等。全書共13章:第1章為硅和鍺的化學制備;第2章為區(qū)熔提純;第3章為晶體生長;第4章為硅、鍺晶體中的雜質(zhì)和缺陷;第5章為硅外延生長;第6章為Ⅲ-Ⅴ族化合物半導體;第7章為Ⅲ-Ⅴ族化合物半導體的外延生長;第8章為Ⅲ-Ⅴ族多元化合物半導體;第9章為Ⅱ
本書以集成電路領域中的等離子體刻蝕為切入點,介紹了等離子體基礎知識、基于等離子體的刻蝕技術、等離子體刻蝕設備及其在集成電路中的應用。全書共8章,內(nèi)容包括集成電路簡介、等離子體基本原理、集成電路制造中的等離子體刻蝕工藝、集成電路封裝中的等離子體刻蝕工藝、等離子體刻蝕機、等離子體測試和表征、等離子體仿真、顆?刂坪土慨a(chǎn)。本