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集成電路與光刻機 
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9 7 6 8 5 7 7 0 9 3 2 0 3 讀者對象:本書主要為企業(yè)、高校和科研院所從事高端光刻機研發(fā)的科研人員提供參考，也可供相關研究方向的學生閱讀，也適合對光刻機感興趣的大眾。
光刻機是集成電路制造的核心裝備，直接決定了集成電路的微細化水平。本書介紹了集成電路與光刻機的發(fā)展歷程；重點介紹了光刻機整機、分系統(tǒng)與曝光光源的主要功能、基本結構、工作原理、關鍵技術等；簡要介紹了計算光刻技術；最后介紹了光刻機成像質(zhì)量的提升與光刻機整機、分系統(tǒng)的技術進步。
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