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知識產權保護與技術創(chuàng)新研究

知識產權保護與技術創(chuàng)新研究

定  價:49 元

        

  • 作者:李蕊著
  • 出版時間:2021/11/1
  • ISBN:9787313262660
  • 出 版 社:上海交通大學出版社
  • 中圖法分類:D923.404 
  • 頁碼:120頁
  • 紙張:
  • 版次:
  • 開本:26cm
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本書屬于“前沿科學思想學術文庫”系列,本書的出版得到了江蘇省高校哲學社會科學研究一般項目“普惠視野下江蘇省自貿區(qū)知識產權制度創(chuàng)新研究”(2020SJA0360)的支持。本書從理論和實證角度闡述了知識產權保護對我國技術創(chuàng)新的影響。理論分析以一般均衡和博弈分析為基礎對知識產權保護對我國技術創(chuàng)新的影響進行機理研究。實證分析基于省級面板數據,實證檢驗我國知識產權保護水平對企業(yè)研發(fā)投入和創(chuàng)新產出的影響,同時還利用我國高技術產業(yè)層面的數據,檢驗知識產權保護對企業(yè)創(chuàng)新產生的績效。
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