書單推薦
更多
新書推薦
更多

內(nèi)容適應(yīng)性超像素生成技術(shù)研究

內(nèi)容適應(yīng)性超像素生成技術(shù)研究

定  價:68 元

        

  • 作者:原野著
  • 出版時間:2023/12/1
  • ISBN:9787205109851
  • 出 版 社:遼寧人民出版社
  • 中圖法分類:TN911.73 
  • 頁碼:250頁
  • 紙張:
  • 版次:
  • 開本:26cm
9
7
1
8
0
7
9
2
8
0
5
5
1
超像素生成是對圖像的一種過度分割,它通過對像素進行標(biāo)記將一組具有相似特性(如顏色、位置、內(nèi)容含義等)的像素聚合為一個超像素。超像素生成過程中,其邊緣貼合特性與形狀規(guī)整特性相異引起的準(zhǔn)確度與規(guī)整度全局性的非必要互斥極大影響了結(jié)果質(zhì)量,內(nèi)容適應(yīng)性超像素布局則能夠消減這種互斥,是能滿足圖像不同區(qū)域需求的有效手段。本書圍繞超像素算法在實際應(yīng)用中的作用,總結(jié)和分析了現(xiàn)有超像素生成算法的特點和不足,并基于超像素內(nèi)容適應(yīng)性布局,對圖像內(nèi)容加以分析,提出了一種新的布局策略,并以此構(gòu)造了三個新的超像素生成算法,能夠在有效減少兩者互斥的基礎(chǔ)上,實現(xiàn)超像素生成質(zhì)量的提升。
 你還可能感興趣
 我要評論
您的姓名   驗證碼: 圖片看不清?點擊重新得到驗證碼
留言內(nèi)容