《X射線衍射理論與實踐》(Ⅱ)包括X射線衍射分析的3個專題應(yīng)用和Rietveld全譜擬合精修方法。專題應(yīng)用包括:宏觀內(nèi)應(yīng)力的測量(第1章)、織構(gòu)的測定與分析(第2章)和非晶態(tài)物質(zhì)的X射線衍射分析(第6章)。每個專題應(yīng)用都包括4個環(huán)節(jié):從基礎(chǔ)理論開始,導(dǎo)出實驗原理和實驗方法,最后結(jié)合科研需要,通過應(yīng)用實例講解,進(jìn)行操作技
《X射線衍射理論與實踐》(Ⅰ)介紹了X射線衍射學(xué)的基礎(chǔ)理論和粉末X射線衍射的原理、儀器測試技術(shù)和數(shù)據(jù)處理方法。主要內(nèi)容包括X射線的產(chǎn)生和性質(zhì)、晶體學(xué)基礎(chǔ)、X射線衍射幾何與衍射強度理論,并介紹了各種X射線衍射實驗方法和數(shù)據(jù)處理方法,包括X射線衍射儀和數(shù)據(jù)采集方法、數(shù)據(jù)的基本處理方法、物相定性分析、物相定量方法、結(jié)晶度計算
本書從全球氣候變化的角度,系統(tǒng)總結(jié)了紫外輻射生態(tài)學(xué)的**研究成果。作者將近20年來的科研成果與國內(nèi)外研究進(jìn)展相結(jié)合,在概述大氣臭氧衰減與地表UV-B輻射增強的基礎(chǔ)上,全面闡述了地表UV-B輻射增強對植物生長和植物生產(chǎn)力的影響,并系統(tǒng)分析了UV-B輻射對植物生長發(fā)育過程中代謝和形態(tài)建成的調(diào)控作用,歸納了UV-B輻射傷害植
本書是偉大的物理學(xué)家ArnoldSommerfeld的“理論物理學(xué)教程”第四卷《光學(xué)》的中文翻譯,書中對光的反射與折射、運動介質(zhì)和運動光源光學(xué)、色散理論、晶體光學(xué)和衍射理論的物理和數(shù)學(xué)原理作了系統(tǒng)和深刻的討論,其中若干成果是他本人及其學(xué)生的創(chuàng)造性貢獻(xiàn).
本書詳細(xì)介紹了聲學(xué)各個主要分支學(xué)科(包括物理聲學(xué),聲人工結(jié)構(gòu),水聲學(xué)和海洋聲學(xué),結(jié)構(gòu)聲學(xué),檢測聲學(xué)與儲層聲學(xué),生物醫(yī)學(xué)超聲,微聲學(xué),功率超聲,環(huán)境聲學(xué),語言聲學(xué)和生物聲學(xué),心理和生理聲學(xué),音樂聲學(xué),氣動聲學(xué)和大氣聲學(xué),聲學(xué)標(biāo)準(zhǔn)和聲學(xué)計量)的內(nèi)涵、特點和研究范疇,國內(nèi)外發(fā)展現(xiàn)狀,基礎(chǔ)領(lǐng)域今后5~10年重點研究方向,國家需
隨著科學(xué)技術(shù)的發(fā)展,數(shù)值計算在聲學(xué)研究中的應(yīng)用越來越廣泛,計算聲學(xué)已逐漸成為聲學(xué)研究的一個重要分支。本書介紹計算聲學(xué)多種方法的基本原理和實際步驟,主要包括角譜方法、有限差分法、射線跟蹤法、有限元方法、格子氣自動機及非線性聲學(xué)的數(shù)值計算。重點介紹如何把基本的物理問題變換為計算機能夠處理的形式,再選用合適的計算方法解決問題
本書論述了固體物理學(xué)的基礎(chǔ)知識和理論,共分為6章內(nèi)容,包括晶體結(jié)構(gòu)和晶體衍射、晶體的結(jié)合、晶體中的缺陷、晶格振動和晶體的熱學(xué)性質(zhì)、金屬自由電子論以及固體能帶理論。書中系統(tǒng)地介紹了晶體結(jié)構(gòu)及其表征、晶體的衍射原理、晶體的結(jié)合類型及其形成的物理機制和表現(xiàn)出的物理性質(zhì)、晶體缺陷的產(chǎn)生和缺陷類型及其對物性的影響、晶格振動的色散
《Z-掃描非線性光學(xué)表征技術(shù)》主要內(nèi)容包括三個部分:介紹多種三階非線性光學(xué)效應(yīng)的物理機理和三階非線性光學(xué)表征技術(shù),詳細(xì)介紹Z-掃描表征技術(shù),討論Z-掃描技術(shù)表征高階光學(xué)非線性效應(yīng)、飽和非線性光學(xué)效應(yīng)、各向異性非線性光學(xué)效應(yīng),介紹多種改進(jìn)型Z-掃描技術(shù);介紹包括溶劑、有機分子、玻璃、鐵電薄膜、半導(dǎo)體、二維材料和近零折射率
本書內(nèi)容包括:電磁場基本方程、原理和定理,分離變量法,格林函數(shù),矢量方程與并矢格林函數(shù),各向同性水平層狀介質(zhì)中的電磁場,瞬變電磁場。全書從麥克斯韋方程出發(fā),涵蓋電磁場的各個方面,內(nèi)容豐富,概念清楚,重點突出,由淺入深,循序漸進(jìn),便于閱讀。
本書是全國科學(xué)技術(shù)名詞審定委員會審定公布的光學(xué)名詞,內(nèi)容包括:基礎(chǔ)光學(xué),非線性光學(xué)與量子光學(xué),微納光學(xué)與近場光學(xué),發(fā)光學(xué),色度學(xué),光學(xué)材料,光學(xué)薄膜,光纖光學(xué)與導(dǎo)波光學(xué),光無源器件,光源,光有源器件,光電檢測與光學(xué)傳感器,一般光學(xué)系統(tǒng)與光學(xué)設(shè)計,成像技術(shù),影像技術(shù),顯示技術(shù),圖像處理技術(shù),光學(xué)儀器I:基本結(jié)構(gòu)與光參數(shù)檢