5G網(wǎng)絡(luò)建設(shè)實踐與模式創(chuàng)新共9章。首先，梳理了5G移動通信發(fā)展的歷史與現(xiàn)狀，詳細(xì)闡述了5G網(wǎng)絡(luò)的關(guān)鍵理論基礎(chǔ)和組網(wǎng)架構(gòu)；然后根據(jù)5G技術(shù)的發(fā)展路線，分別論述了NSA和SA網(wǎng)絡(luò)的特點和演進思路；其次，分析總結(jié)了影響5G網(wǎng)絡(luò)建設(shè)的關(guān)鍵技術(shù)點，深入分析了關(guān)鍵技術(shù)在實際落地應(yīng)用過程中，所需要的措施、優(yōu)缺點、常見問題以及5G建設(shè)

本書首先介紹物理層安全中關(guān)鍵的技術(shù)，然后對新型場景下物理層安全關(guān)鍵技術(shù)的應(yīng)用與算法設(shè)計進行深入詳盡的分析與研究。第1章主要介紹物理層的研究背景和研究現(xiàn)狀。第2～5章給出多天線系統(tǒng)中物理層安全的基本概念，提出不同的安全技術(shù)方案，以及波束成形和功率分配方法。第6～10章介紹多播網(wǎng)絡(luò)中的安全波束成形技術(shù)，分析無線安全信息和能

本書較為全面地介紹了圖像檢測與控制技術(shù)及其應(yīng)用實例，旨在為智能裝備的開發(fā)提供技術(shù)思路和方案參考。上篇“圖像檢測與控制技術(shù)”，主要介紹智能裝備中常用的圖像處理算法、專業(yè)圖像處理系統(tǒng)、近紅外光譜與高光譜成像和自動控制理論。下篇“應(yīng)用實例”，從圖像檢測實例、近紅外光譜與高光譜成像技術(shù)應(yīng)用實例、圖像檢測與控制實例3個方面，精選

現(xiàn)代信息化戰(zhàn)爭中，反輻射導(dǎo)彈是電子對抗中必不可少的硬摧毀武器，而其用于制導(dǎo)的被動雷達(dá)寬帶數(shù)字接收機技術(shù)是關(guān)鍵核心技術(shù)。被動雷達(dá)寬帶數(shù)字接收機面臨當(dāng)今復(fù)雜環(huán)境與復(fù)雜信號的挑戰(zhàn)。本書圍繞寬帶數(shù)字接收機設(shè)計與實現(xiàn)中的相關(guān)問題，全面介紹采樣技術(shù)、信道化技術(shù)、信號識別技術(shù)和PDW形成技術(shù)。全書分為6章，□□章主要介紹被動雷達(dá)寬帶

本書以全彩圖解+視頻講解的形式，詳解介紹了電子元器件的識別、檢測、選用、代換、維修等知識。本書首先講述了常用檢測儀表的使用方法，然后分門別類地講解了電阻器、敏感電阻器、電位器、電容器、電感器、變壓器、二極管、三極管、晶閘管、場效應(yīng)管、IGBT、集成電路、LED數(shù)碼管、液晶顯示器、真空熒光顯示器、繼電器、石英晶振、陶瓷諧

本書通過大量的工程實例和容量超大的同步視頻，系統(tǒng)地介紹了AltiumDesigner20的新功能、入門必備基礎(chǔ)知識、各種常用功能的使用方法以及應(yīng)用AltiumDesigner20進行電路設(shè)計的思路、實施步驟和操作技巧。全書共分為12章，主要內(nèi)容包括AltiumDesigner20入門、原理圖繪制、原理圖編輯、原理圖高級

本書介紹了電子元器件的種類、特點、功能、應(yīng)用、檢測、選用及代換,用全彩+全圖+微視頻的全新講解方式,介紹各類電子元器件的實用知識及應(yīng)用與檢測代換技能。

本書介紹了35個典型的電源電路設(shè)計案例，內(nèi)容包含固定式單電源直流穩(wěn)壓電路設(shè)計、可調(diào)式單電源直流穩(wěn)壓電路設(shè)計、固定式雙電源直流穩(wěn)壓電路設(shè)計、可調(diào)式雙電源直流穩(wěn)壓電路設(shè)計、固定式穩(wěn)流電源電路設(shè)計、可調(diào)式穩(wěn)流電源電路設(shè)計、固定式倍壓器直流穩(wěn)壓電源電路設(shè)計、逆變式直流穩(wěn)壓電源電路設(shè)計、升壓式DC/DC電源電路設(shè)計、正負(fù)跟蹤直流

本書根據(jù)模擬電子技術(shù)課程教學(xué)基本要求與學(xué)習(xí)特點，適應(yīng)近年來模擬電子技術(shù)的發(fā)展，主要討論模擬電子電路的基本概念、基本原理、基本電路和分析方法，共8章，內(nèi)容包括：半導(dǎo)體器件、放大電路基礎(chǔ)、模擬集成運算放大器、模擬信號運算與處理電路、反饋放大電路、信號產(chǎn)生電路、功率放大電路、直流穩(wěn)壓電源。

光刻是集成電路制造的核心技術(shù)，光刻工藝成本已經(jīng)超出集成電路制造總成本的三分之一。在集成電路制造的諸多工藝單元中，只有光刻工藝可以在硅片上產(chǎn)生圖形，從而完成器件和電路三維結(jié)構(gòu)的制造。計算光刻被公認(rèn)為是一種可以進一步提高光刻成像質(zhì)量和工藝窗口的有效手段。基于光刻成像模型，計算光刻不僅可以對光源的照明方式做優(yōu)化，對掩模上圖形